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化学隔膜泵在半导体湿法清洗/刻蚀过程中也发挥着重要作用。清洗设备中的供酸、循环和排废工艺段都需要使用到隔膜泵，而刻蚀设备则需要输送有机溶剂等介质。由于清洗设备属非标设备，根据设备大小，泵的使用数量不定，一般一台设备在5-10台左右。

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